N,N,N',N'-Tetrakis(2-hydroxypropyl)ethylenediamine CAS 102-60-3
N. Paghahanda ng cyanide free alkaline copper plating solution gamit ang N, N ', N' - Tetrakis (2-hydroxypropyl) ethylenediamine Sa industriya ng electroplating, ang alkaline copper plating ay pangunahing ginagamit bilang base coating para sa mga substrate tulad ng mga bahagi ng bakal, zinc mga bahagi ng haluang metal, mga bahagi ng aluminyo haluang metal, mga bahagi ng tanso, atbp.
| item | Pagtutukoy |
| Boiling point | 175-181 °C0.8 mm Hg(lit.) |
| Densidad | 1.03 g/mL sa 20 °C(lit.) |
| Natutunaw na punto | 32°C |
| pKa | 14.23±0.20(Hula) |
| resistivity | n20/D 1.4812(lit.) |
| kadalisayan | 99% |
N. N, N ', N' - Ang Tetrakis (2-hydroxypropyl) ethylenediamine ay pangunahing ginagamit bilang isang complexing agent para sa electroless copper plating. Ang mga metal chelating agent ay ginagamit sa paggawa ng circuit board para sa chemical copper plating, soldering flux, at mga ahente sa paglilinis.
Karaniwang nakaimpake sa 25kg/drum, at maaari ding gawin ang customized na pakete.
N,N,N',N'-Tetrakis(2-hydroxypropyl)ethylenediamine CAS 102-60-3
N,N,N',N'-Tetrakis(2-hydroxypropyl)ethylenediamine CAS 102-60-3
